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跨界全球，心芯相连，中鼎化学以纯化技术赋能半导体产业发展
一、中鼎化学亮相上海，携核心技术而来
大连中鼎化学，由中科院大连化物所专家团队创立，是专注于超纯气体纯化技术的国家高新技术企业 。本次，我们派出13人专业团队，携******一代气体纯化设备、POU终端纯化柱、先进纯化填料三大核心产品，亮相展会现场，与上下游伙伴深度交流、共谋发展。
二、核心产品，赋能先进制程
半导体产业向3nm及以下先进制程迈进，对气体纯度提出9N级（99.9999999%）、杂质＜0.1ppb的严苛要求。中鼎化学深耕气体纯化领域多年，核心产品精准匹配行业痛点：
- 新一代气体纯化设备：覆盖N₂、H₂、Ar、He、O2等多品类气体，采用“催化+吸附+Getter”多技术联用，双塔交替再生、全自动连续运行，产气纯度稳定达9N，单项杂质脱除至0.1ppb，适配12英寸先进产线 。
- POU终端纯化柱：安装于机台用气端口，精准拦截管路二次污染，将O₂、H₂O、CO、CO₂等杂质控制在ppb级，守护光刻、刻蚀、CVD等关键工艺稳定性，提升晶圆良率。
- 先进纯化填料：自主研发高比表面积吸附剂与催化剂，吸附容量大、再生周期长、稳定性强，降低客户长期运维成本，打破进口耗材依赖 。
三、深耕行业，助力国产替代
中鼎化学产品已服务于半导体、集成电路、LED、光伏等近千家企业，覆盖从研发到量产全场景 。我们始终坚持自主创新+国产替代，以技术实力支撑中国半导体产业链自主可控，为先进制程提供稳定、可靠、高性价比的气体纯化解决方案。
四、携手同行，共筑产业未来
本次展会，我们不仅带来前沿技术，更期待与设备厂商、晶圆厂、材料供应商、特气企业等上下游伙伴，开展技术对接、方案定制、深度合作。我们坚信，唯有开放协同、跨界融合，才能推动中国半导体产业迈向更高水平。
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